Disclosed is an ordered microelectronic fabrication sequence in which color
filters are formed by conformal deposition directly onto a photodetector
array of a CCD, CID, or CMOS imaging device to create a concave-up pixel
surface, and, overlayed with a high transmittance planarizing film of
specified index of refraction and physical properties which optimize light
collection to the photodiode without additional conventional microlenses.
The optically flat top surface serves to encapsulate and protect the
imager from chemical and thermal cleaning treatment damage, minimizes
topographical underlayer variations which would aberrate or cause
reflection losses of images formed on non-planar surfaces, and, obviates
residual particle inclusions induced during dicing and packaging. A CCD
imager is formed by photolithographically patterning a planar-array of
photodiodes on a semiconductor substrate. The photodiode array is provided
with metal photoshields, passivated, and, color filters are formed
thereon. A transparent encapsulant is deposited to planarize the color
filter layer and completes the solid-state color image-forming device
without conventional convex microlenses.
São divulgadas uma seqüência microelectronic requisitada da fabricação em que os filtros da cor são dados forma pelo deposition conformal diretamente em uma disposição do photodetector dispositivo de uma imagem latente do CCD, do CID, ou do CMOS para criar uma superfície côncava-acima do pixel, e, coberta com uma película planarizing do transmittance elevado do índice de refraction especificado e as propriedades físicas que optimize a coleção clara ao fotodiodo sem microlenses convencionais adicionais. Ótica os saques da superfície superior de plano encapsulate e protegem o tonalizador dos danos químicos e térmicos do tratamento da limpeza, minimizam as variações topográficas do underlayer que perdas da reflexão do aberrate ou da causa das imagens dadas forma em superfícies non-non-planar, e, obviates os inclusions residuais da partícula induzidos durante cortar e empacotar. Um tonalizador do CCD é dado forma photolithographically modelando planar-põe dos fotodiodos em uma carcaça do semicondutor. A disposição do fotodiodo é fornecida com os photoshields do metal, passivated, e, os filtros da cor são dados forma thereon. Um encapsulant transparente é depositado planarize a camada de filtro da cor e termina o dispositivo imagem-dando forma da cor solid-state sem microlenses convexos convencionais.
