Phase mask for forming diffraction grating, and optical fiber and optical waveguide having diffraction grating duplicated using the phase mask

   
   

The present invention relates to a precision phase mask for forming diffraction grating in optical fiber and optical waveguide, to provide them with nonlinear chirped grating for dispersion compensation use and having low fluctuation or crosstalk in the group delay characteristics. The diffraction grating is formed by means of interference fringe between diffracted lights of different orders, in which the cycle of the diffraction grating 20 increases nonlinearly, wherein plurality of diffraction gratings G.sub.1, G.sub.2, G.sub.3 . . . having different cycles are assembled on a plane in increasing order of the cycle with the directions of the diffraction gratings directed to the same direction, and assembled in such a manner that, where the cycle of grating changes nonlinearly and discontinuously, the regions having larger rate of change of the cycle contain proportionally more discontinuous phases per unit length.

Η παρούσα εφεύρεση αφορά μια μάσκα φάσης ακρίβειας για τη διαμόρφωση του κιγκλιδώματος διάθλασης στην οπτική ίνα και ο οπτικός κυματοδηγός, για να παρέχει σε τους μη γραμμικό τερέτισε κιγκλίδωμα για τη χρήση αποζημιώσεων διασποράς και κατοχή της χαμηλής διακύμανσης ή της λογομαχίας στα χαρακτηριστικά καθυστέρησης ομάδας. Το κιγκλίδωμα διάθλασης διαμορφώνεται με τη βοήθεια του περιθωρίου παρέμβασης μεταξύ των προξενημένων περίθλαση φώτων των διαφορετικών διαταγών, στις οποίες ο κύκλος του κιγκλιδώματος διάθλασης 20 αυξήσεις nonlinearly, όπου πολλαπλότητα των κιγκλιδωμάτων διάθλασης G.sub.1, G.sub.2, G.sub.3. .. έχοντας τους διαφορετικούς κύκλους συγκεντρώνεται σε ένα αεροπλάνο κατά αυξανόμενη σειρά τον κύκλο με τις κατευθύνσεις των κιγκλιδωμάτων διάθλασης που κατευθύνονται στην ίδια κατεύθυνση, και που συγκεντρώνονται με έναν τέτοιο τρόπο ότι, όπου ο κύκλος του κιγκλιδώματος αλλάζει nonlinearly και discontinuously, οι περιοχές που έχουν το μεγαλύτερο ποσοστό αλλαγής του κύκλου περιέχουν αναλογικά περισσότερες ασυνεχείς φάσεις ανά μήκος μονάδων.

 
Web www.patentalert.com

< Optical polarization beam combiner/splitter

< Reflective lithography mask inspection tool based on achromatic Fresnel optics

> Method and apparatus for manufacturing micro-lens array substrate

> Method for eliminating strong ambient light in aircraft cockpits

~ 00170