An inductive write head structure incorporating a high moment film in
conjunction with at least one pole (e.g., the bottom pole) for use with
magnetic storage media and a process for producing the same in which a
lift-off photoresist mask is used prior to the deposition of the high
moment sputtered film. Following the lift-off process, the high moment
film remains on the bottom pole ("P1") pedestal (in the case of a PDZT
type write head) or on the P1 itself (in the case of a Stitched Pole write
head). The edge of the lift-off sputtered film is then covered by cured
photoresist insulation which is placed at a distance away from the air
bearing surface ("ABS"). The coverage of insulation at the edge of the
sputtered film is desirable in order to avoid forming a topographic step
which may have undesired consequences in the subsequent top pole formation
processes.
Un inductif écrit la structure de tête incorporant un haut film de moment en même temps qu'au moins un poteau (par exemple, le poteau inférieur) pour l'utilisation avec des supports de stockage magnétiques et un procédé pour produire la même chose dans lesquels un masque de vernis photosensible de décollage est employé avant le dépôt du film pulvérisé par moment élevé. Après le procédé de décollage, le haut film de moment reste sur piédestal inférieur du poteau (le "P1") (dans le cas d'un type de PDZT écrivez la tête) ou sur le P1 lui-même (dans le cas d'un Polonais piqué écrivez la tête). Le bord du film pulvérisé par décollage est alors couvert par l'isolation traitée de vernis photosensible qui est placée à une distance loin de la surface de galet pneumatique ("ABS"). L'assurance de l'isolation au bord du film pulvérisé est souhaitable afin d'éviter de former une étape topographique qui peut avoir des conséquences peu désirées dans les processus supérieurs suivants de formation de poteau.
