Process for producing thin film metal oxide coated substrates

   
   

Processes for coating three dimensional inorganic substrates, with shielded surfaces, with metal oxide-containing coatings are disclosed. Such processes comprise contacting a substrate with a droplet metal oxide and interactant precursor reactant mixture at fast reaction and elevated temperature reaction conditions to form a substrate containing metal oxide on at least a portion of the three dimensions and shielded surfaces of the substrate.

Prozesse für das Beschichten der dreidimensionalen anorganischen Substrate, mit abgeschirmten Oberflächen, mit MetallOxid-enthaltenen Schichten werden freigegeben. Solche Prozesse enthalten das In Verbindung treten einem Substrat mit einem Tröpfchenmetalloxid und mit interactant Vorläuferreaktionsmittelmischung an der schnellen Reaktion und an erhöhten Temperaturreaktion Zuständen, um ein Substrat zu bilden, das Metalloxid auf mindestens einem Teil der drei Maße und der abgeschirmten Oberflächen des Substrates enthält.

 
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