An in situ polymer microstructure formation method. The monomer mixture is
polymerized in a solvent/precipitant through exposure to ionizing
radiation in the absence any chemical mediators. If an exposure mask is
employed to block out certain regions of the radiation cross section, then
a patterned microstructure is formed. The polymerization mechanism is
based on the so-called free-radical retrograde-precipitation
polymerization process, in which polymerization occurs while the system is
phase separating above the lower critical solution temperature. This
method was extended to produce a crosslinked line grid-pattern of poly
(N-isopropylacrylamide), which has been known to have thermoreversible
properties.
Un metodo in situ di formazione di microstruttura del polimero. La miscela del monomero è polimerizzata in un solvent/precipitant con esposizione a radiazione ionizzante in assenza tutti i mediatori chimici. Se una mascherina di esposizione è impiegata per ostruire fuori determinate regioni della sezione trasversale di radiazione, quindi una microstruttura modellata è formata. Il meccanismo di polimerizzazione è basato sul cosiddetto processo libero-radicale di polimerizzazione della retrogrado-precipitazione, in cui la polimerizzazione si presenta mentre il sistema è fase che separa sopra la temperatura critica più bassa della soluzione. Questo metodo si è esteso per produrre una linea unita con legami atomici incrociati griglia-modello di poli (N-isopropylacrylamide), che è stato conosciuto per avere proprietà termoreversibili.
