A symmetric or asymmetric multilayer structure based on the technique of
surface plasmon resonance (SPR) has been applied for modulation of
resonant angle and wavelength. The fabrication of this invention can have
nanoscale thin film layers up to several hundreds, while each layer has
its own material of a high or low refractive index value, and the total
layers in a thickness of tens to hundreds nanometers are grown in this
single structure. This invention is intended for optimizing the scanning
of mechanism by modulating SPR resonant angle and wavelength, and for
developing the prospect of portable instruments.
Una struttura a più strati simmetrica o asimmetrica basata sulla tecnica di risonanza di superficie del plasmon (SPR) è stata fatta domanda per modulazione dell'angolo e della lunghezza d'onda sonori. Il montaggio di questa invenzione può avere strati della pellicola sottile del nanoscale fino a parecchie centinaia, mentre ogni strato ha relativo proprio materiale di alto o valore basso di indice di rifrazione e gli strati totali in uno spessore dei dieci ai nanometri di centinaia si sviluppano in questa singola struttura. Questa invenzione è intesa per l'ottimizzazione dell'esame del meccanismo modulando l'angolo sonoro e la lunghezza d'onda di SPR e per sviluppare il prospetto degli strumenti portatili.
