Laser oscillation apparatus, exposure apparatus, semiconductor device manufacturing method, semiconductor manufacturing factory, and exposure apparatus maintenance method

   
   

A laser oscillation apparatus includes a wavelength change unit for driving a wavelength selection element in a band-narrowing module and changing the oscillation wavelength of a laser beam to a target value, and an oscillation history memory for storing the oscillation state of the laser beam as an oscillation history. The wavelength change unit drives the wavelength selection element on the basis of the oscillation history and changes the oscillation wavelength of the laser beam to the target value.

Un aparato de la oscilación del laser incluye una unidad del cambio de la longitud de onda para conducir un elemento de la selección de la longitud de onda en un módulo venda-que enangosta y cambiar la longitud de onda de la oscilación de un rayo laser a un valor de blanco, y una memoria de la historia de la oscilación para almacenar el estado de la oscilación del rayo laser como historia de la oscilación. La unidad del cambio de la longitud de onda conduce el elemento de la selección de la longitud de onda en base de la historia de la oscilación y cambia la longitud de onda de la oscilación del rayo laser al valor de blanco.

 
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