A structure of a structure release and a manufacturing method are provided.
The structure and manufacturing method are adapted for an interference
display cell. The structure of the interference display cell includes a
first electrode, a second electrode and at least one supporter. The second
electrode has at least one hole and is arranged about parallel with the
first electrode. The supporter is located between the first electrode and
the second electrode and a cavity is formed. In the release etch process
of manufacturing the structure, an etchant can pass through the hole to
etch a sacrificial layer between the first and the second electrodes to
form the cavity; therefore, the time needed for the process becomes
shorter.
Une structure d'un dégagement de structure et une méthode de fabrication sont fournies. La méthode de structure et de fabrication sont adaptées pour une cellule d'affichage d'interférence. La structure de la cellule d'affichage d'interférence inclut une première électrode, une deuxième électrode et au moins un défenseur. La deuxième électrode a au moins un trou et est disposé environ parallèle avec la première électrode. Le défenseur est situé entre la première électrode et la deuxième électrode et une cavité est formé. Dans le processus gravure à l'eau forte de dégagement de la fabrication la structure, un passage etchant de bidon par le trou pour graver à l'eau-forte une couche sacrificatoire entre la première et les deuxièmes électrodes pour former la cavité ; donc, le moment nécessaire pour le processus devient plus court.
