Method and apparatus for monitoring the operation of a wafer handling robot

   
   

The integrity of control signals used to control a wafer handling robot is monitored by a monitor connected to various points of the robotic control system. The monitor includes a memory for storing data sets representing correct, reference characteristics of the control signals. The monitor samples control signals at various points in the control system and compares these sampled signals with the stored reference characteristics in order to determine whether a signal disparity exists. If a disparity exists, the monitor generates an error.

La integridad de las señales de control usadas para controlar una oblea que maneja la robusteza es supervisada por un monitor conectado con los varios puntos del sistema de control robótico. El monitor incluye una memoria para almacenar la representación correcta, características de los modems de la referencia de las señales de control. El monitor muestrea señales de control en los varios puntos en el sistema de control y compara estas señales muestreadas con las características almacenadas de la referencia para determinarse si existe una disparidad de la señal. Si existe una disparidad, el monitor genera un error.

 
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