A debris removing system prevents debris from being scattered from an X-ray
source. The debris removing system includes an attracting unit, disposed
between a light emission point of the X-ray source and the optical system,
for attracting debris. The attracting unit has an attracting surface
parallel or approximately parallel to an axis passing through the light
emission point. The debris removing system further includes a rotation
unit for rotating the attracting unit about the axis. This debris removing
system assures a superior debris removing effect and a good EUV light
utilization efficiency, being compatible with each other.
I residui che rimuovono il sistema impediscono i residui la dispersione da una fonte dei raggi X. I residui che rimuovono il sistema includono un'unità attraentesi, disposta di fra un punto chiaro dell'emissione della fonte dei raggi X ed il sistema ottico, per attrarre i residui. L'unità attraentesi ha un parallelo di superficie attraentesi o approssimativamente parallelo ad un asse che passa attraverso il punto chiaro dell'emissione. I residui che rimuovono il sistema più ulteriormente includono un'unità di rotazione per la rotazione dell'unità attraentesi circa l'asse. Questi residui che rimuovono il sistema assicurano un effetto di rimozione dei residui superiori e una buona efficienza chiara di utilizzazione di EUV, essendo compatibili con a vicenda.
