A negative resist material, which comprises at least a high polymer
containing repeating units represented by the following general formula
(1) and having a weight average molecular weight of 1,000 to 500,000.
There is provided a negative resist material, in particular, a negative
resist material of chemical amplification type, which shows high
sensitivity, resolution, exposure latitude and process adaptability as
well as good pattern shape after light exposure, and further shows
superior etching resistance.
##STR1##
Недостаток сопротивляет материалу, который состоит из по крайней мере высокого полимера содержа повторяющ блоки представленные following вообще формулой (1) и имеющ вес среднего веса молекулярный 1.000 к 500.000. Обеспечено недостатку сопротивляют материалу, в частности, недостаток сопротивляют материалу химически типа амплификации, который показывает высокую чувствительность, разрешение, широту выдержки и приспособляемостьь процесса также,как хорошая форма картины после светлой выдержки, и более добавочно показывают главное сопротивление вытравливания. ## ## STR1