Method for treating photosensitive lithographic printing plate

   
   

A method for treating a photosensitive lithographic printing plate, which comprises exposing the photosensitive lithographic printing plate to laser light, developing with a developer containing an alkali metal silicate and then carrying out post-exposure treatment, said photosensitive lithographic printing plate being prepared by forming a photopolymerizable photosensitive layer having a film thickness of from 1.2 to 4 g/m.sup.2 and further forming a protective layer having a film thickness of from 2 to 8 g/m.sup.2 on a support having a centerline average height (Ra) of at least 0.35 .mu.m.

Метод для обрабатывать фоточувствительную литографскую печатая плиту, которая состоит из подвергать действию фоточувствительная литографская печатая плита к свету лазера, превращающся при проявитель содержа силикат металла алкалиа и после этого нося из послеэкспозиционой обработки, сказанной фоточувствительной литографской печатая плиты будучи подготовлянной путем формировать photopolymerizable фоточувствительный слой имея толщину пленки от от 1.2 до 4 g/m.sup.2 и более дальнейших формирующ защитный слой имея толщину пленки от от 2 до 8 g/m.sup.2 на поддержке имея высоту оси среднюю (ra) по крайней мере 0.35 mu.m.

 
Web www.patentalert.com

< Recovery and re-use of anode oxygen from electrolytic cells

< Image forming method

> Fabric care compositions

> C7 heterosubstituted acetate taxane compositions

~ 00165