There are provided techniques of forming a back reflecting layer with
constant characteristics throughout long-term film formation and forming a
metal oxide film so as to be able to maintain a current of a bottom cell
and thereby keep a short-circuit current Jsc of a solar cell constant over
a long period of time. A sputtering method is a method of forming a stack
of a metal film and a metal oxide film, comprising the step 1 of forming a
metal layer on a substrate, the step 2 of bringing a surface of the metal
layer into contact with active oxygen, and the step 3 of forming a metal
oxide film thereon after the step 2, wherein in the step 2 an amount of
active oxygen at a first substrate position is different from that at a
second substrate position.
Υπάρχουν παρεχόμενες τεχνικές ένα πίσω απεικονίζοντας στρώμα με τα σταθερά χαρακτηριστικά σε όλο το μακροπρόθεσμο σχηματισμό ταινιών και μια ταινία μεταλλικών οξειδίων ώστε να είναι σε θέση να διατηρήσουν ένα ρεύμα ενός κατώτατου κυττάρου και με αυτόν τον τρόπο να κρατήσουν ένα βραχυκύκλωμα τρέχον Jsc ενός ηλιακού κυττάρου σταθερού κατά τη διάρκεια μιας μακριάς χρονικής περιόδου. Μια μέθοδος επιμετάλλωσης είναι μια μέθοδος έναν σωρό μιας ταινίας μετάλλων και μιας ταινίας μεταλλικών οξειδίων, περιλαμβάνοντας το βήμα 1 της διαμόρφωσης ενός στρώματος μετάλλων σε ένα υπόστρωμα, το βήμα 2 να φέρει μια επιφάνεια του στρώματος μετάλλων στην επαφή με το ενεργό οξυγόνο, και το βήμα 3 να διαμορφώσει μια ταινία μεταλλικών οξειδίων επ'αυτού μετά από το βήμα 2, όπου στο βήμα 2 ένα ποσό ενεργού οξυγόνου σε μια πρώτη θέση υποστρωμάτων είναι διαφορετικό από αυτήν σε μια δεύτερη θέση υποστρωμάτων.
