Photoacid generators, photoresist compositions containing the same and pattering method with the use of the compositions

   
   

Photoacid generators comprising sulfonium salt compounds represented by the following general formula (2) wherein R.sup.1 and R.sup.2 represent each an alkyl group optionally having oxo, or R.sup.1 and R.sup.2 may be cyclized together to form an alkylene group optionally having oxo; R.sup.3, R.sup.4 and R.sup.5 represent each hydrogen or a linear, branched, monocyclic, polycyclic or crosslinked cyclic alkyl group; and Y.sup.- represents a counter ion. ##STR1##

Οι γεννήτριες Photoacid περιλαμβάνοντας το sulfonium που οι αλατισμένες ενώσεις που αντιπροσωπεύονται από τον ακόλουθο γενικό τύπο (2) όπου R.sup.1 και R.sup.2 αντιπροσωπεύουν κάθε μια αλκυλική ομάδα προαιρετικά που έχει oxo, ή R.sup.1 και R.sup.2 μπορούν να είναι μαζί για να διαμορφώσουν μια alkylene ομάδα προαιρετικά που έχει oxo Τα R.sup.3, R.sup.4 και R.sup.5 αντιπροσωπεύουν κάθε υδρογόνο ή ένας γραμμικός, διακλαδίστηκε, monocyclic, πολυκυκλική ή διασυνδεμένη κυκλική αλκυλική ομάδα και Y.sup. - αντιπροσωπεύει ένα αντίθετο ιόν. ## STR1 ##

 
Web www.patentalert.com

< Star block copolymers and related synthetic methods

< Charged microfibers, microfibrillated articles and use thereof

> Method for producing highly-branched glycidol-based polyols

> Logically ordered arrays of compounds and methods of making and using the same

~ 00161