Projection exposure apparatus and device manufacturing method that change a resonator length of a continuous emission excimer laser

   
   

A projection exposure apparatus includes a continuous emission excimer laser for providing laser light having a predetermined wavelength, an illumination optical system for illuminating a pattern of a reticle with laser light having the predetermined wavelength, a projection optical system for projecting the illuminated pattern of the reticle onto a substrate, wherein the projection optical system is provided by a lens system made of a substantially single glass material, a laser for injecting light having the predetermined wavelength into a resonator of the continuous emission excimer laser, a wavemeter for measuring the wavelength of the laser light from the continuous emission excimer laser, and a changing device for changing a resonator length of the continuous emission excimer laser on the basis of a signal from the wavemeter so that the wavelength of the laser light from the continuous emission excimer laser becomes equal to the predetermined wavelength.

Un aparato de exposición de la proyección incluye un laser continuo del excimer de la emisión para proporcionar la luz laser que tiene una longitud de onda predeterminada, un sistema óptico de la iluminación para iluminar un patrón de un retículo con la luz laser que tiene la longitud de onda predeterminada, un sistema óptico de la proyección para proyectar el patrón iluminado del retículo sobre un substrato, en donde el sistema óptico de la proyección es proporcionado por un sistema de la lente hecho de un material de cristal substancialmente solo, de un laser para inyectar la luz que tiene la longitud de onda predeterminada en un resonador del laser continuo del excimer de la emisión, de un ondámetro para medir la longitud de onda de la luz laser del laser continuo del excimer de la emisión, y de un dispositivo que cambia para cambiar una longitud del resonador de laser continuo del excimer de la emisión en base de una señal del ondámetro de modo que la longitud de onda de la luz laser del laser continuo del excimer de la emisión llegue a ser igual a la longitud de onda predeterminada.

 
Web www.patentalert.com

< Antenna with a magnetic interface

< Magnetic resonance imaging method and device

> Methods and systems for electrical and/or drug stimulation as a therapy for erectile dysfunction

> Exposure apparatus, substrate processing system, and device manufacturing method

~ 00161