A method and apparatus for dispensing a liquid on the surface of a
localized zone of a substrate, for example for cleaning of etching
purposes. Along with the liquid, a gaseous tensio-active substance is
supplied, which is miscible with said liquid and when mixed with the
liquid, reduces the surface tension of said liquid, thus containing the
liquid in a local zone of the substrate surface.
Eine Methode und ein Apparat für das Zuführen einer Flüssigkeit auf der Oberfläche einer beschränkten Zone eines Substrates, z.B. für Reinigung der Radierung Zwecke. Zusammen mit der Flüssigkeit wird eine gasförmige tensio-aktive Substanz, die mit besagter Flüssigkeit und wenn sie gemischt wird, mit der Flüssigkeit mischbar ist, verringert die Oberflächenspannung der besagten Flüssigkeit geliefert und so enthält die Flüssigkeit in einer lokalen Zone der Substratoberfläche.
