The throughput of a metrology module is enhanced by measuring a first
parameter of a processed substrate and only measuring additional
parameters if warranted from an analysis of the first parameter. Thus,
after a substrate is processed, a first parameter related to the
processing is measured and analyzed. If the measured parameter falls
within accepted tolerance, the data is reported and then next substrate is
processed. If, however, the measured parameter falls outside the range of
accepted tolerance, the second parameter or additional parameters are
measured and analyzed. The data can then be reported, the processing of
subsequent substrate stopped and/or the processing of subsequent
substrates adjusted based on the analyzed data.
Der Durchsatz eines Metrologiemoduls wird erhöht, indem man einen ersten Parameter eines verarbeiteten Substrates und nur der messenden zusätzlichen Parameter mißt, wenn er von einer Analyse des ersten Parameters gewährleistet wird. So nachdem ein Substrat verarbeitet ist, wird ein erster Parameter, der auf der Verarbeitung bezogen wird, gemessen und analysiert. Wenn der gemessene Parameter innerhalb der geltenden Toleranz fällt, werden die Daten berichtet und dann wird folgendes Substrat verarbeitet. Wenn jedoch der gemessene Parameter außerhalb der Strecke der geltenden Toleranz fällt, werden der zweite Parameter oder die zusätzlichen Parameter gemessen und analysiert. Die Daten können berichtet werden, die Verarbeitung des folgenden Substrates dann gestoppt werden und/oder die Verarbeitung der folgenden Substrate justiert worden basiert auf den analysierten Daten.
