A contact structure and manufacturing method thereof is provided. A
substrate having a first conductive layer and a dielectric layer thereon
is provided. The dielectric layer has a contact opening that exposes a
portion of the first conductive layer. A conductive nano-particle layer is
formed on the exposed surface of the first conductive layer. Thereafter, a
second conductive layer is formed inside the contact opening to cover the
conductive nano-particle layer and form a contact structure. The
conductive nano-particle layer at the bottom of the contact prevents the
second conductive layer from peeling off and costs much less to produce.
Un metodo di fabbricazione della struttura e del contatto di ciò è fornito. Un substrato che ha un primo strato conduttivo e uno strato dielettrico su ciò è fornito. Lo strato dielettrico ha un'apertura del contatto che espone una parte del primo strato conduttivo. Uno strato conduttivo della nano-particella è formato sulla superficie esposta del primo strato conduttivo. Da allora in poi, un secondo strato conduttivo è formato all'interno dell'apertura del contatto per riguardare lo strato conduttivo della nano-particella e per formare una struttura del contatto. Lo strato conduttivo della nano-particella alla parte inferiore del contatto impedisce il secondo strato conduttivo la sbucciatura fuori e costa molto di meno a prodotti.