Device and method for depositing one or more layers on a substrate

   
   

The invention relates to a device and method for depositing one or more layers onto at least one substrate placed inside a reaction chamber. The layers are deposited while using a liquid or solid starting material for one of the reaction gases utilized, which are fed via a gas admission unit to the reaction chamber where they condense or epitaxially grow on the substrate. The gas admission unit comprises a multitude of buffer volumes in which the reaction gasses enter separate of one another, and exit through closely arranged outlet openings while also being spatially separate of one another. The temperature of reaction gases is moderated while passing through the gas admission unit.

Вымысел относит к приспособлению и методу для депозировать one or more слои на по крайней мере один субстрат помещенный внутри камеры реакции. Депозированы слои пока использующ жидкость или твердый первоначальный материал для одного из использованных газов реакции, которые поданы через блок допущения газа к камере реакции где они конденсируют или эпитаксиально растут на субстрате. Блок допущения газа состоит из multitude томов буфера в газы реакции регистрируют отдельно одного другое, и выходит через близко аранжированные отверстия выхода пока также был spatially отдельно одного другое. Умерена температура газов реакции пока проходящ через блок допущения газа.

 
Web www.patentalert.com

< Nickel mixed hydroxide, method for the producing the same, and the use thereof as a cathode material in alkaline batteries

< Separator for fuel cell, process for production thereof, and solid polymer type fuel cell using said separator

> Porous silica granule, method for producing the same, and method for producing synthetic quartz glass powder using the porous silica granule

> Catalysts for the gas-phase oxidation of ethylene and acetic acid to vinyl acetate, a process for producing them and their use

~ 00158