A substrate for an electron source to be used for forming the electron
source, the electron source and an image forming apparatus in which the
substrate has been used, and manufacturing method thereof. The substrate
to form the electron source in which an electron emission device is
disposed includes a substrate containing Na, a first layer wish SiO.sub.2
as a main component having been formed on the substrate, and a second
layer containing electron conductive oxide. The electron source includes
the substrate and the electron emission device disposed on the first layer
or the second layer. The image forming apparatus includes the electron
source and an image forming member to form an image with irradiation of
electrons emitted from the electron source. According to a manufacturing
method of the substrate for forming the electron source with which the
electron emission device is formed, the first layer with SiO.sub.2 as its
main component, and the second layer containing electron conductive oxide
are formed on a substrate containing Na. The manufacturing method of an
electron source includes a step in which the first layer with SiO.sub.2 as
its main component, and the second layer containing electron conductive
oxide are formed on a substrate containing Na, and a step of forming an
electron emission device on the first layer or on the second layer.
Un substrato para que una fuente del electrón sea utilizada para formar la fuente del electrón, la fuente del electrón y una imagen formando el aparato en el cual se ha utilizado el substrato, y método de fabricación de eso. El substrato para formar la fuente del electrón en la cual se dispone un dispositivo de la emisión del electrón incluye un substrato que contiene el Na, un primer deseo SiO.sub.2 de la capa como componente principal que es formado en el substrato, y una segunda capa que contiene el óxido conductor del electrón. La fuente del electrón incluye el substrato y el dispositivo de la emisión del electrón dispuestos en la primera capa o la segunda capa. La imagen que forma el aparato incluye la fuente del electrón y una imagen que forman a miembro para formar una imagen con la irradiación de los electrones emitidos de la fuente del electrón. Según un método de fabricación del substrato para formar la fuente del electrón con la cual se forma el dispositivo de la emisión del electrón, la primera capa con SiO.sub.2 como su componente principal, y la segunda capa que contiene el óxido conductor del electrón se forman en un substrato que contiene el Na. El método de fabricación de una fuente del electrón incluye un paso en el cual la primera capa con SiO.sub.2 como su componente principal, y la segunda capa que contiene el óxido conductor del electrón se forme en un substrato que contiene el Na, y un paso de formar un dispositivo de la emisión del electrón en la primera capa o en la segunda capa.
