Method of manufacturing an edge reflection type surface acoustic wave device

   
   

A method of manufacturing an edge reflection type surface acoustic wave device using a Shear Horizontal type surface acoustic wave includes the steps of making a first half cut defining a first end surface portions having a smooth surface, that is, opposing two end surfaces which function as reflection end surfaces, from the upper surface of a piezoelectric substrate after at least one of a plurality of IDTs has been formed on the upper surface of the piezoelectric substrate, making a second half cut for forming second end surface portions having a rough surface after making the first cut, and making a full cut for cutting the piezoelectric substrate so as to reach the lower surface of the piezoelectric substrate outside of the second end surface portions in the surface acoustic wave propagation direction.

Eine Methode der Produktion einer Randreflexion Art die Oberfläche akustische Welle Vorrichtung, die eine Scherhorizontale Art Oberfläche akustische Welle verwendet, schließt die Schritte des Bildens einer ersten Hälfte ein, die ein erstes Ende definierend die Oberflächenteile geschnitten wird, die, eine glatte Oberfläche haben, d.h. taucht bildet das Entgegensetzen von von zwei Ende Oberflächen, die als Reflexion Ende arbeiten, von der Oberfläche eines piezoelektrischen Substrates, nachdem eins mindestens einer Mehrzahl von IDTs auf der Oberfläche des piezoelektrischen Substrates gebildet worden ist auf und einen zweiten Hälfte Schnitt für die Formung zweites Ende der Oberflächenteile, die eine rauhe Oberfläche haben, nachdem es den ersten Schnitt gebildet hat, und einen vollen Schnitt für den Schnitt des piezoelektrischen Substrates gebildet hat, damit das niedrigere erreichen Oberfläche des piezoelektrischen Substrates draußen der zweites Ende Oberflächenteile in der akustische Welle Ausbreitungoberflächenrichtung.

 
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< Surface acoustic wave device on LiTaO3 substrate using primarily silver electrodes covered with SiO2 film

< Surface acoustic wave filter

> Surface acoustic wave device and communication device including same

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