Electron beam apparatus and image forming apparatus

   
   

The present invention is concerned with an electron beam apparatus comprising: a hermetic container; an electron source disposed within the hermetic container; and a spacer; wherein the spacer includes at least a region where a layer containing fine particles exists, a sheet resistance measured at the surface of the region of the spacer is 10.sup.7 .OMEGA./.quadrature. or more, and the fine particles are 1000 .ANG. or less in the average diameter of the particles and includes at least metal elements. The electron beam apparatus exhibits the excellent display quality which suppresses the displacement of the light emission point with the charge and the creeping discharge, and the long-period reliability.

De onderhavige uitvinding is betrokken met een elektronenstraalapparaat bestaand uit: een hermetische container; een elektronenbron die binnen de hermetische container wordt geschikt; en een verbindingsstuk; waarin het verbindingsstuk minstens een gebied omvat waar een laag die fijne deeltjes bevat bestaat, is een bladweerstand die aan de oppervlakte van het gebied van het verbindingsstuk wordt gemeten 10.sup.7 OMEGA./quadrature. of meer, en de fijne deeltjes zijn 1000. ANG of minder in de gemiddelde diameter van de deeltjes en omvatten minstens metaalelementen. Het elektronenstraalapparaat stelt de uitstekende vertoningskwaliteit tentoon die de verplaatsing van het lichte emissiepunt met de last en de kruipende lossing, en de langdurige betrouwbaarheid onderdrukt.

 
Web www.patentalert.com

< Method and system for automated repair design of damaged blades of a compressor or turbine

< Image forming apparatus

> Electric start for a prime mover

> Torsion spring for electro-mechanical switches and a cantilever-type RF micro-electromechanical switch incorporating the torsion spring

~ 00157