Highly uniform 1 nm silicon nanoparticles are provided by the invention.
The nanoparticles exhibit beneficial properties. They are a source of
stimulated emissions. They may be suspended in liquids, and solids. They
can be formed into crystals, colloids and films. The nanoparticles of the
invention are about 1 nm having about only one part in one thousand
greater than 1 nm. A method for producing the silicon nanoparticle of the
invention is a gradual advancing electrochemical etch of bulk silicon.
Separation of nanoparticles from the surface of the silicon may also be
conducted. Once separated, various methods may be employed to form plural
nanoparticles into colloids, crystals, films and other desirable forms.
The particles may also be coated or doped.
In hohem Grade werden Uniform 1 nm Silikon nanoparticles von der Erfindung zur Verfügung gestellt. Die nanoparticles stellen vorteilhafte Eigenschaften aus. Sie sind eine Quelle der angeregten Emissionen. Sie können in den Flüssigkeiten und in den Körpern verschoben werden. Sie können in Kristalle, in Kolloide und in Filme gebildet werden. Die nanoparticles der Erfindung sind ungefähr 1 nm, der ungefähr nur ein Teil in tausend grösser als 1 nm hat. Eine Methode für das Produzieren des Silikon nanoparticle der Erfindung ist eine stufenweise vorrückende elektrochemische Ätzung des Massensilikons. Trennung von nanoparticles von der Oberfläche des Silikons kann auch geleitet werden. Sobald getrennt worden, können verschiedene Methoden eingesetzt werden, um plural nanoparticles in Kolloide, in Kristalle, in Filme und in andere wünschenswerte Formen zu bilden. Die Partikel können überzogen auch sein oder lackierten.
