Selective refractory metal and nitride capping

   
   

A method for creating a refractory metal and refractory metal nitride cap effective for reducing copper electromigration and copper diffusion is described. The method includes depositing a refractory metal nucleation layer and nitriding at least the upper portion of the refractory metal layer to form a refractory metal nitride. Methods to reduce and clean the copper lines before refractory metal deposition are also described. Methods to form a thicker refractory metal layer using bulk deposition are also described.

Метод для создавать тугоплавкий металл и тугоплавкий нитрид металла покрывают эффективное для уменьшения медной электромиграции и диффузия меди описана. Метод вклюает депозировать тугоплавкие слой и нитрирование нуклеации металла по крайней мере верхняя часть тугоплавкого слоя металла для того чтобы сформировать тугоплавкий нитрид металла. Методы для уменьшения и для того чтобы очистить медных линий прежде чем тугоплавкое низложение металла также будет описано. Методы для того чтобы сформировать более толщиной тугоплавкий слой металла используя навальное низложение также описаны.

 
Web www.patentalert.com

< Air cleaning

< Method of manufacturing a flash memory cell using a self-aligned floating gate

> Method for forming contact plug in semiconductor device

> Mounting process for outgassing-sensitive optics

~ 00157