A system and/or method are disclosed for measuring and/or controlling
refractive index (n) and/or lithographic constant (k) of an immersion
medium utilized in connection with immersion lithography. A known grating
structure is built upon a substrate. A refractive index monitoring
component facilitates measuring and/or controlling the immersion medium by
utilizing detected light scattered from the known grating structure.
Un sistema e/o un metodo sono rilevati per la misurazione e/o il controllo l'indice di rifrazione (n) e/o del costante litografico (k) di un mezzo di immersione utilizzato in relazione alla litografia di immersione. Una struttura stridente conosciuta รจ sviluppata su un substrato. Un indice di rifrazione che controlla il componente facilita misurare e/o controllare il mezzo di immersione utilizzando la luce rilevata sparsa dalla struttura stridente conosciuta.
