Systems and methods are described for environmental exchange control for a
polymer on a wafer surface. An apparatus for controlling an exchange
between an environment and a polymer on a surface of a wafer located in
the environment includes: a chamber adapted to hold the wafer, define the
environment, and maintain the polymer in an adjacent relationship with the
environment; and a heater coupled to the chamber. A method for improving
performance of a spin-on material includes: forming the spin-on material
on a surface of a wafer; then locating the spin-on material in an
environment so that said environment is adjacent said spin-on material;
and then controlling an exchange between the spin-on material and said
environment. The systems and methods provide advantages because
inappropriate deprotection is mitigated by careful control of the
environmental temperature and environmental species partial pressures
(e.g. relative humidity).
De systemen en de methodes worden beschreven voor milieudeviezencontrole voor een polymeer op een wafeltjeoppervlakte. Een apparaat om een uitwisseling tussen een milieu en een polymeer op een oppervlakte van een wafeltje te controleren dat in het milieu wordt gevestigd omvat: een kamer die wordt aangepast om het wafeltje te houden, het milieu te bepalen, en het polymeer in een aangrenzende verhouding met het milieu te handhaven; en een verwarmer die aan de kamer wordt gekoppeld. Een methode om prestaties van rotatie- materieel te verbeteren omvat: het vormen van rotatie- materieel op een oppervlakte van een wafeltje; dan de plaats bepalend van rotatie- materieel in een milieu zodat het bovengenoemde milieu aangrenzend bovengenoemd rotatie-op materiaal is; en dan controlerend een uitwisseling tussen het rotatie- materiële en bovengenoemde milieu. De systemen en de methodes verstrekken voordelen omdat ongepaste deprotection door zorgvuldige controle van de milieutemperatuur en de milieusoorten gedeeltelijke druk (b.v. relatieve vochtigheid) wordt verlicht.
