Method for optimizing an illumination source using full resist simulation and process window response metric

   
   

A method for optimizing the illumination conditions of a lithographic apparatus by computer simulation using full resist calculation, the lithographic apparatus comprising an illuminator, a projection system, and a mask having a pattern to be printed in a layer of photoresist material formed on a substrate. This method includes defining a lithographic 0problem, which may include a lithographic pattern to be printed on a wafer; choosing a resist model of a resist process to be used to print a pattern in the layer of photoresist material; selecting a grid of source points in a pupil plane of the illuminator; calculating separate responses for individual source points, each of the responses representing a result of a single or series of simulations using the resist model; and adjusting an illumination arrangement based on analysis of accumulated results of the separate calculations.

Een methode om de verlichtingsvoorwaarden van een lithografisch apparaat door computersimulatie te optimaliseren die hoogtepunt gebruikt verzet zich tegen berekening, de lithografische apparaten bestaand uit illuminator, een projectiesysteem, en een masker dat een patroon dat in een laag van photoresist materiaal heeft moet worden gedrukt die op een substraat wordt gevormd. Deze methode omvat bepalen lithografische 0problem, die een lithografisch patroon kan omvatten dat op een wafeltje moet worden gedrukt; kiezen verzet zich tegen model van verzet zich tegen proces dat om een patroon in de laag van photoresist materiaal moet worden gebruikt te drukken; het selecteren van een net van bron richt in een leerlingsvliegtuig van illuminator; het berekenen verzetten de afzonderlijke reacties zich voor individuele bronpunten, elk van de reacties die een resultaat van een enig of reeks simulaties vertegenwoordigen die tegen model gebruiken; en aanpassend een verlichtingsregeling die bij de analyse van geaccumuleerde resultaten van de afzonderlijke berekeningen wordt gebaseerd.

 
Web www.patentalert.com

< Method and apparatus for compensation of time-varying optical properties of gas in interferometry

< Cavity-enhanced liquid absorption spectroscopy

> Plug and play electric machine

> Flow cell humidity sensor system

~ 00153