Liquid or supercritical carbon dioxide composition

   
   

A composition which includes liquid or supercritical carbon dioxide and an acid having a pKa of less than about 4. The composition is employed in a process of removing residue from a precision surface, such as a semiconductor sample, in which the precision surface is contacted with the composition under thermodynamic conditions consistent with the retention of the liquid or supercritical carbon dioxide in the liquid or supercritical state.

Ein Aufbau, der flüssiges oder überkritisches Kohlendioxyd und eine Säure, die ein pKa von kleiner als ungefähr 4 hat miteinschließt. Der Aufbau wird in einem Prozeß des Entfernens des Überrests von einer Präzision Oberfläche, wie einer Halbleiterprobe eingesetzt, in der die Präzision Oberfläche mit dem Aufbau unter den thermodynamischen Bedingungen befragt wird, die mit dem Zurückhalten der Flüssigkeit oder überkritischem Kohlendioxyd im flüssigen oder überkritischen Zustand gleichbleibend sind.

 
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< Process of obtaining compositions of stable lutein and lutein derivatives

< Process for making a (3R,3'R)-zeaxanthin precursor

> Method for supercritical processing of multiple workpieces

> Turbine part mount for supercritical fluid processor

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