A polymer having a repeating unit comprising a copolymer of butadiene
sulfone and maleic anhydride, and a chemically amplified resist
composition comprising the polymer. The resist composition includes a
photosensitive polymer having a first repeating unit comprising a
copolymer of butadiene sulfone and maleic anhydride, the first repeating
unit represented by a formula:
##STR1##
and a second repeating unit copolymerized with the first repeating unit.
Un polymère ayant une unité de répétition comporter un copolymère de la sulfone de butadiène et de l'anhydride maléique, et chimiquement amplifié résistent à la composition comportant le polymère. La composition en résistance inclut un polymère photosensible ayant une première unité de répétition comporter un copolymère de la sulfone de butadiène et de l'anhydride maléique, la première unité de répétition représentée par une formule : ## du ## STR1 et une deuxième unité de répétition copolymerized avec la première unité de répétition.
