Semiconductor processing system with wafer container docking and loading station

   
   

A processor for processing integrated circuit wafers, semiconductor substrates, data disks and similar units requiring very low contamination levels. The processor has an interface section which receives wafers in standard wafer carriers. The interface section transfers the wafers from carriers onto novel trays for improved processing. The interface unit can hold multiple groups of multiple trays. A conveyor having an automated arm assembly moves wafers supported on a tray. The conveyor moves the trays from the interface along a track to several processing stations. The processing stations are accessed from an enclosed area adjoining the interface section.

Un processor per l'elaborazione le cialde del circuito integrato, i substrati a semiconduttore, i disc di dati e delle unità simili richiedenti la contaminazione molto bassa livella. Il processor ha una sezione dell'interfaccia che riceve le cialde in elementi portanti standard della cialda. La sezione dell'interfaccia trasferisce le cialde dagli elementi portanti sui vassoi del romanzo per l'elaborazione migliorata. L'unità dell'interfaccia può tenere i gruppi multipli dei vassoi multipli. Un trasportatore che ha un complessivo automatizzato del braccio sposta le cialde sostenute su un vassoio. Il trasportatore sposta i vassoi dall'interfaccia lungo una pista verso parecchie stazioni d'elaborazione. Le stazioni d'elaborazione sono raggiunte da una zona inclusa che congiunge la sezione dell'interfaccia.

 
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< Semiconductor wafer processing apparatus

> Contact assembly for supplying power to workpieces during electrochemical processing

> Submicron metallization using electrochemical deposition

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