Apparatus and method for processing a substrate

   
   

A substrate-processing method includes at least (a) a step of delivering a web substrate and an interleaf from a substrate delivery bobbin provided in a substrate delivery chamber while the web substrate is transported into a substrate-processing chamber and the interleaf delivered is wound on an interleaf takeup bobbin, and (b) a step of subjecting the web substrate transported into the substrate-processing chamber to desired processing in the substrate-processing chamber. The web substrate processed in the substrate-processing chamber is transported outside the substrate-processing chamber, and transport abnormality of the interleaf in the substrate delivery chamber is detected by a transport abnormality-detecting mechanism.

Un metodo d'elaborazione include almeno (a) un punto di trasporto del substrato di fotoricettore e un interleaf da una bobina di consegna del substrato ha fornito in un alloggiamento di consegna del substrato mentre il substrato di fotoricettore è trasportato in un alloggiamento d'elaborazione ed il interleaf trasportato è ferito su una bobina del takeup del interleaf e (b) un punto di soggetto del substrato di fotoricettore ha trasportato nell'alloggiamento d'elaborazione all'elaborazione voluta nell'alloggiamento d'elaborazione. Il substrato di fotoricettore proceduto nell'alloggiamento d'elaborazione è parte esterna trasportata l'alloggiamento d'elaborazione e l'anomalia di trasporto del interleaf nell'alloggiamento di consegna del substrato è rilevata da un meccanismo dirilevazione di trasporto.

 
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