Blocker plate by-pass for remote plasma clean

   
   

A flow of a remotely-generated plasma to a processing chamber by-passes a blocker plate and thereby avoids unwanted recombination of active species. By-passing the blocker plate according to embodiments of the present invention avoids the high pressures arising upstream of the blocker plate, inhibiting ion recombination and elevating the concentration of reactive ions available in the processing chamber for cleaning and other reactions. In accordance with one embodiment of the present invention, the flowed ions may be distributed beyond the edge of an underlying blocker plate through channels of a separate by-pass plate positioned between the gas box and the blocker plate. In accordance with an alternative embodiment in accordance with the present invention, the flow of remotely generated active ion species may be distributed beyond the edge of an underlying blocker plate through channels of the gas box itself.

Un flujo de un plasma alejado-generada a un compartimiento de proceso puentea una placa del blocker y de tal modo evita la recombinación indeseada de la especie activa. El puente de la placa del blocker según encarnaciones de la actual invención evita las altas presiones que se presentan contracorriente desde la placa del blocker, recombinación del ion que inhibe y elevando la concentración de iones reactivos disponibles en el compartimiento de proceso para la limpieza y otras reacciones. De acuerdo con una encarnación de la actual invención, los iones fluidos se pueden distribuir más allá del borde de una placa subyacente del blocker a través de los canales de una placa separada de puente colocada entre la caja del gas y la placa del blocker. De acuerdo con una encarnación alternativa de acuerdo con la actual invención, el flujo de la especie activa remotamente generada del ion se puede distribuir más allá del borde de una placa subyacente del blocker a través de los canales de la caja del gas sí mismo.

 
Web www.patentalert.com

< Method using wet etching to trim a critical dimension

< Semiconductor latches and SRAM devices

> Nickel silicide--silicon nitride adhesion through surface passivation

> Microelectromechanical system with stiff coupling

~ 00151