Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions

   
   

Apparatus and method for abatement of effluent from multi-component metal oxides deposited by CVD processes using metal source reagent liquid solutions which comprise at least one metal coordination complex including a metal to which is coordinatively bound at least one ligand in a stable complex and a suitable solvent medium for that metal coordination complex e.g., a metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) process for forming barium strontium titanate (BST) thin films on substrates. The effluent is sorptively treated to remove precursor species and MOCVD process by-products from the effluent. An endpoint detector such as a quartz microbalance detector may be employed to detect incipient breakthrough conditions in the sorptive treatment unit.

Le matériel et la méthode pour la réduction de l'effluent des oxydes de métal à plusieurs éléments déposés par CVD traite en utilisant les solutions liquides de réactif de source en métal qui comportent au moins un complexe de coordination en métal comprenant un métal auquel est coordinatively lié au moins un ligand dans un milieu dissolvant complexe et approprié stable pour ce complexe de coordination en métal par exemple, un procédé metalorganic de la déposition en phase vapeur (MOCVD) pour former les couches minces du titanate de strontium de baryum (déclaration provisoire) sur des substrats. L'effluent est sorbant traité pour enlever des espèces de précurseur et des sous-produits de processus de MOCVD de l'effluent. Un détecteur de point final tel qu'un détecteur de microbalance de quartz peut être utilisé pour détecter des conditions naissantes de percée dans l'unité sorbante de traitement.

 
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