Pulse control in laser systems

   
   

A pulsed laser system includes a laser pump, a laser rod, a reflector interposed between the laser pump and the laser rod, through which energy from the laser pump enters the laser rod, an output reflector through which energy is emitted from the laser rod, a switch interposed between the laser rod and the output reflector, and a control device. The switch, when closed, causes energy to be stored in the laser rod and, when opened, allows energy to be emitted from the laser rod during an emission period. The control device allows a primary laser pulse emitted from the laser rod during the emission period to impinge on a workpiece and blocks from the workpiece secondary laser emission occurring during the emission period after emission of the primary pulse. The pulsed laser system is operated over a range of repetition rates, so as to cause laser energy to be emitted during a plurality of emission periods at each repetition rate. At least a portion of the laser energy emitted during the emission periods is directed toward the target structure in order to perform passive or functional trimming of the target structure. The switch is closed for a fixed, predetermined period of time prior to each emission period regardless of repetition rate of the primary laser pulse within the range of repetition rates in order to store energy in the laser rod. The pump is operated continuously at constant power.

Ένα παλόμενο σύστημα λέιζερ περιλαμβάνει μια αντλία λέιζερ, μια ράβδο λέιζερ, έναν ανακλαστήρα που παρεμβάλλονται μεταξύ της αντλίας λέιζερ και τη ράβδο λέιζερ, μέσω των οποίων η ενέργεια από την αντλία λέιζερ εισάγει τη ράβδο λέιζερ, ένας ανακλαστήρας παραγωγής μέσω του οποίου η ενέργεια εκπέμπεται από τη ράβδο λέιζερ, έναν διακόπτη που παρεμβάλλονται μεταξύ της ράβδου λέιζερ και του ανακλαστήρα παραγωγής, και μια συσκευή ελέγχου. Ο διακόπτης, όταν κλείνεται, αναγκάζει την ενέργεια για να αποθηκευτεί στη ράβδο λέιζερ και, όταν ανοίγεται, επιτρέπει στην ενέργεια για να εκπεμφθεί από τη ράβδο λέιζερ κατά τη διάρκεια μιας περιόδου εκπομπής. Η συσκευή ελέγχου επιτρέπει σε έναν αρχικό σφυγμό λέιζερ που εκπέμπεται από τη ράβδο λέιζερ κατά τη διάρκεια της περιόδου εκπομπής για να προσκρούσει σε ένα κομμάτι προς κατεργασία και τους φραγμούς από τη δευτεροβάθμια εκπομπή λέιζερ κομματιών προς κατεργασία που εμφανίζεται κατά τη διάρκεια της περιόδου εκπομπής μετά από την εκπομπή του αρχικού σφυγμού. Το παλόμενο σύστημα λέιζερ χρησιμοποιείται πέρα από μια σειρά των επαναληπτικών ποσοστών, ώστε να αναγκαστεί η ενέργεια λέιζερ για να εκπεμφθεί κατά τη διάρκεια μιας πολλαπλότητας των περιόδων εκπομπής σε κάθε επαναληπτικό ποσοστό. Τουλάχιστον μια μερίδα της ενέργειας λέιζερ που εκπέμπεται κατά τη διάρκεια των περιόδων εκπομπής κατευθύνεται προς τη δομή στόχων προκειμένου να εκτελεσθεί η παθητική ή λειτουργική τακτοποίηση της δομής στόχων. Ο διακόπτης είναι κλειστός για σταθερό, προκαθορισμένος χρονική περίοδος πριν από κάθε περίοδο εκπομπής ανεξάρτητα από το επαναληπτικό ποσοστό του αρχικού σφυγμού λέιζερ μέσα στη σειρά των επαναληπτικών ποσοστών προκειμένου να αποθηκευτεί η ενέργεια στη ράβδο λέιζερ. Η αντλία χρησιμοποιείται συνεχώς στη σταθερή δύναμη.

 
Web www.patentalert.com

< Modular approach to the next generation, short wavelength, laser-like light sources

< Multistage synchronization of pulsed radiation sources

> Method of fabricating semiconductor laser device and semiconductor laser device

> EUV, XUV, and X-Ray wavelength sources created from laser plasma produced from liquid metal solutions

~ 00149