An insulating film which enables not only to obtain a good film quality but
to achieve an excellent filling property, thick film formation and
planarization simultaneously, an insulating film forming coating solution
for forming the insulating film, and a method of manufacturing the
insulating film are set forth. An insulating film forming coating solution
containing as a main component a solution of a polymer obtained by
co-hydrolysis of trialkoxysilane expressed by a general formula,
SiH(OR).sub.3 --, methyltrialkoxysilane expressed by a general formula,
SiCH.sub.3 (OR).sub.3 --, and tetraalkoxysilane expressed by a general
formula, Si(OR).sub.4 is coated on a semiconductor substrate (1) having a
step portion, and after it is heated and dried in an inert gas atmosphere,
an insulating film (6) which is composed of a silane-derived compound
expressed by a general formula, SiH.sub.x (CH.sub.3).sub.y
O.sub.2-(x+y)/2, where, 0
Μια μονώνοντας ταινία που επιτρέπουν όχι μόνο να ληφθεί μια υψηλή ποιότητα ταινιών αλλά για να επιτύχουν μια άριστη γεμίζοντας ιδιοκτησία, ο παχύ σχηματισμός ταινιών και το planarization ταυτόχρονα, μια μονώνοντας ταινία που διαμορφώνουν τη λύση επιστρώματος για τη διαμόρφωση της μονώνοντας ταινίας, και μια μέθοδος τη μονώνοντας ταινία εκτίθενται. Μια μονώνοντας ταινία που διαμορφώνει τη λύση επιστρώματος που περιέχει ως κύριο συστατικό μια λύση ενός πολυμερούς σώματος που λαμβάνεται από την ομο-υδρόλυση του trialkoxysilane που εκφράζεται από έναν γενικό τύπο, methyltrialkoxysilane SiH(OR).sub.3 --, που εκφράζεται από έναν γενικό τύπο, SiCH.sub.3 (OR).sub.3 --, και tetraalkoxysilane που εκφράζεται από έναν γενικό τύπο, Si(OR).sub.4 είναι ντυμένη σε ένα υπόστρωμα ημιαγωγών (1) που έχει μια μερίδα βημάτων, και μετά από το θερμαίνεται και ξηρός σε μια αδρανή αέριο ατμόσφαιρα, μια μονώνοντας ταινία (6) που αποτελείται από μια σηλανε-παραγόμενη ένωση που εκφράζεται από έναν γενικό τύπο, SiH.sub.x (CH.sub.3).sub.y O.sub.2-(x+y)/2, όπου, 0
