Method of packaging and assembling micro-fluidic device

   
   

A new architecture for packaging surface micromachined electro-microfluidic devices is presented. This architecture relies on two scales of packaging to bring fluid to the device scale (picoliters) from the macro-scale (microliters). The architecture emulates and utilizes electronics packaging technology. The larger package consists of a circuit board with embedded fluidic channels and standard fluidic connectors (e.g. Fluidic Printed Wiring Board). The embedded channels connect to the smaller package, an Electro-Microfluidic Dual-Inline-Package (EMDIP) that takes fluid to the microfluidic integrated circuit (MIC). The fluidic connection is made to the back of the MIC through Bosch-etched holes that take fluid to surface micromachined channels on the front of the MIC. Electrical connection is made to bond pads on the front of the MIC.

Новое зодчество для упаковывая поверхности micromachined приспособления electro-microfluidic-microfluidic. Это зодчество полагается на 2 маштабах упаковывать для того чтобы принести жидкость к маштабу приспособления (picoliters) от макромасштаба (микролитров). Зодчество подражает и использует технологию электроники упаковывая. Более большой пакет состоит монтажной платы с врезанными fluidic каналами и стандартными fluidic разъемами (например fluidic напечатанной доской проводки). Врезанные каналы соединяются к более малому пакету, Двойн-Встроенн-Paketu electro-Microfluidic-Microfluidic (EMDIP) тому взятия жидкие к microfluidic интегрированной цепи (MIC). Налажено fluidic связьо к задней части MIC до Босчю-vytravlennye отверстия принимают жидкость к поверхности micromachined каналы на фронт MIC. Электрическое связьо налажено к bond пусковым площадкам на фронте MIC.

 
Web www.patentalert.com

< Systems and methods for measuring pressure

< Ion implantation methods and transistor cell layout for fin type transistors

> Process to form narrow write track for magnetic recording

> Method for thin film deposition matching rate of expansion of shadow mask to rate of expansion of substrate

~ 00146