The present invention provides a protecting film capable of preventing
deterioration in adhesion and matching to a substrate (dielectric layer),
and deterioration in electric insulation. The protecting film includes a
film body composed of MgO or the like which is inhibited from reacting
with CO.sub.2 gas and H.sub.2 O gas in air to prevent degeneration of MgO
or the like into MgCO.sub.3 and Mg(OH).sub.2, etc. harmful to FPD. The
film body is formed on the surface of the substrate, and the fluoride
layer is formed on the surface of the film body. The fluoride layer is
represented by MO.sub.X F.sub.Y (M is Mg, Ca, Sr, Ba, an alkali earth
complex metal, a rare earth metal, or a complex metal of an alkali earth
metal and a rare earth metal, 0.ltoreq.X<2, and 0
Η παρούσα εφεύρεση παρέχει μια προστατεύοντας ταινία ικανή την επιδείνωση στην προσκόλληση και ένα υπόστρωμα (διηλεκτρικό στρώμα), και την επιδείνωση στην ηλεκτρική μόνωση. Η προστατεύοντας ταινία περιλαμβάνει ένα σώμα ταινιών που αποτελείται από MgO ή τους ομοίους που είναι εμποδισμένο από να αντιδράσουν με CO.sub.2 αέριο και H.sub.2 ο αέριο στον αέρα για να αποτρέψουν τον εκφυλισμό MgO ή των ομοίων σε MgCO.sub.3 και Mg(OH).sub.2, κ.λπ. επιβλαβή σε FPD. Το σώμα ταινιών διαμορφώνεται στην επιφάνεια του υποστρώματος, και το στρώμα φθοριδίου διαμορφώνεται στην επιφάνεια του σώματος ταινιών. Το στρώμα φθοριδίου αντιπροσωπεύεται από MO.sub.X μέταλλο μέταλλο F.sub.Y (το μ είναι MG, ασβέστιο, SR, BA, ένα αλκαλικό γήινο σύνθετο μέταλλο, ένα σπάνιας γης, ή ένα σύνθετο μέταλλο ενός αλκαλικού γήινου μετάλλου και ένα σπάνιας γης, 0.ltoreq.X
