A detection system and method including a means for performing a test on a
semiconductor device and obtaining test data therefrom. The semiconductor
device includes an insulating layer, a hard mask layer on a surface of the
insulating layer, and a plurality of electrically conductive lines within
a trench in the insulating layer. The insulating layer comprises a first
dielectric material. The hard mask layer comprises a second dielectric
material. The dielectric constant of the second dielectric material
exceeds the dielectric constant of the first dielectric material or the
second dielectric material comprises an element that is not comprised by
the first dielectric material. The test data is a function of a spatial
distribution of the hard mask layer on the surface of the insulating
layer. The detection system and method includes a means for determining
from the test data a measure of the spatial distribution of the hard mask
layer on the surface of the insulating layer.
Een opsporingssysteem en een methode met inbegrip van een middel om een test aangaande een halfgeleiderapparaat uit te voeren en testgegevens daarvan te verkrijgen. Het halfgeleiderapparaat omvat een het isoleren laag, een harde maskerlaag op een oppervlakte van de het isoleren laag, en een meerderheid van elektrisch geleidende lijnen binnen een geul in de het isoleren laag. De het isoleren laag bestaat uit een eerste diëlektrisch materiaal. De harde maskerlaag bestaat uit een tweede diëlektrisch materiaal. De diëlektrische constante van het tweede diëlektrische materiaal overschrijdt de diëlektrische constante van het eerste diëlektrische materiaal of het tweede diëlektrische materiaal bestaat uit een element dat niet door het eerste diëlektrische materiaal wordt samengesteld. De testgegevens zijn een functie van een ruimtedistributie van de harde maskerlaag op de oppervlakte van de het isoleren laag. Het opsporingssysteem en de methode omvatten een middel om van de testgegevens een maatregel van de ruimtedistributie van de harde maskerlaag te bepalen over de oppervlakte van de het isoleren laag.
