A resist composition is provided comprising a fluorochemical surfactant
which functions to reduce the contact angle of a coating of the resist
composition with water or an aqueous base developer as the amount of the
fluorochemical surfactant increases. The resist composition forms a
coating having a thickness uniformity, free of defects, and wettable with
an aqueous base developer when applied onto a substrate, and has a good
storage stability in that particles do not increase during storage in
solution form.
Une composition en résistance est fournie comportant un agent tensio-actif fluorochemical que les fonctions pour réduire l'angle de contact d'un enduit de composition de résistance avec de l'eau ou d'un réalisateur bas aqueux à mesure que la quantité de l'agent tensio-actif fluorochemical augmente. La composition en résistance forme un enduit ayant une uniformité d'épaisseur, exempt des défauts, et mouillable avec un réalisateur bas aqueux une fois appliquée sur un substrat, et a une bonne stabilité de stockage du fait les particules n'augmentent pas pendant le stockage sous la forme de solution.
