High spatial resolution infrared ellipsometer

   
   

The invention concerns an ellipsometer comprising a source (S) supplying at least an infrared radiation, a sample-holder (PE), a sensor (D), a first optical system mounted between the source (S) and the sample-holder (PE), so as to illuminate a sample placed on the sample-holder, under oblique view with a polarised light beam and a second optical system mounted between the sample-holder (PE) and the sensor (D) for collecting the light reflected by the sample. The ellipsometer further comprises a blocking device (F2) mounted on the reflection path in the focal plane of the focusing device (M2) of the second optical system, and adapted to block parasite rays (RP) derived from the rear surface (FAR) of the sample and to allow through useful rays (RU) derived from the front surface (FAV) of the sample towards the sensor (D), thereby enabling to obtain a resolution with respect to the sample front and rear surfaces.

Вымысел относится ellipsometer состоя из источника (S) поставляя по крайней мере ультракрасную радиацию, образц-derjatel6 (PE), датчик (d), первую оптически систему установленную между источником (S) и образц-derjatel6 (PE), для того чтобы осветить образец помещенный на образц-derjatele, под вкосую взглядом при поляризовыванный световой луч и вторая оптически система установленные между образц-derjatelem (PE) и датчиком (D) для собирать свет отраженный образцом. Ellipsometer более дальнейшее состоит из преграждая приспособления (f2) установленного на курсе отражения в фокальная плоскость фокусируя приспособления (m2) второй оптически системы, и приспособленного к лучам дармоеда блока (rp) выведенным от задней поверхности (ДАЛЕКОЙ) образца и позволить через полезные лучи (ru) выведенные от передней поверхности (FAV) образца к датчику (d), таким образом позволяя получить разрешение по отношению к поверхностям образца передним и задним.

 
Web www.patentalert.com

< SPR sensor system

< Method for obtaining a monolayer of desired particles in a liquid sample

> Apparatus of monitoring and optimizing the development of a photoresist material

> Total internal reflection illumination apparatus and microscope using this total internal reflection illumination apparatus

~ 00145