Method and device for incineration and vitrification of waste, in particular radioactive waste

   
   

The present invention provides a method of processing organic waste (D) in divided solid and/or liquid form, the method being implemented in a single reactor (1) containing a bath of molten glass (V) surmounted by a gas phase (G), the method comprising incinerating said waste (D) in the presence of oxygen at the surface (S) of said bath of molten glass (V), and in vitrifying said incinerated waste (D) in said bath of molten glass (V). In said method, and in characteristic manner, in addition to the oxygen delivered as oxidizer into said gas phase (G), oxygen is also injected into said bath of molten glass (V) in a quantity that is sufficient to minimize or to avoid any formation of metal within said bath of glass (V); advantageously in a quantity that is sufficient to minimize or to avoid any formation of metal within said bath of glass (V) and also to subject said bath of glass (V) to moderate stirring. The present invention also provides apparatus for processing organic waste (D) in divided solid and/or liquid form by incineration and vitrification, the apparatus being suitable for implementing said method.

Η παρούσα εφεύρεση παρέχει μια μέθοδο τα οργανικά απόβλητα (D) με διαιρεμένη στερεά ή/και υγρή μορφή, η μέθοδος που εφαρμόζεται σε έναν ενιαίο αντιδραστήρα (1) που περιέχει ένα λουτρό του λειωμένου γυαλιού (V) που ξεπερνιέται από συγχρονίζει αέριο (G), η μέθοδος περιλαμβάνοντας τα αποτέφρωση εν λόγω απόβλητα (D) παρουσία του οξυγόνου στην επιφάνεια (S) του εν λόγω λουτρού του λειωμένου γυαλιού (V), και στην υαλοποίηση των εν λόγω αποτεφρωμένων αποβλήτων (D) στο εν λόγω λουτρό του λειωμένου γυαλιού (V). Στην εν λόγω μέθοδο, και με το χαρακτηριστικό τρόπο, εκτός από το οξυγόνο που παραδίδεται ως oxidizer στην εν λόγω αέριο φάση (G), το οξυγόνο εγχέεται επίσης στο εν λόγω λουτρό του λειωμένου γυαλιού (V) σε ποσότητα που είναι επαρκής για να ελαχιστοποιήσει ή για να αποφύγει οποιοδήποτε σχηματισμό του μετάλλου μέσα στο εν λόγω λουτρό του γυαλιού (V) ευνοϊκά σε ποσότητα που είναι επαρκής για να ελαχιστοποιήσει ή για να αποφύγει οποιοδήποτε σχηματισμό του μετάλλου μέσα στο εν λόγω λουτρό του γυαλιού (V) και επίσης εν λόγω στο θέμα λουτρό του γυαλιού (V) για να συγκρατήσει το ανακάτωμα. Η παρούσα εφεύρεση παρέχει επίσης τις συσκευές για τα οργανικά απόβλητα (D) με διαιρεμένη στερεά ή/και υγρή μορφή από την αποτέφρωση και την υαλοποίηση, οι συσκευές που είναι κατάλληλες για την εν λόγω μέθοδο.

 
Web www.patentalert.com

< Process for the preparation of precipitated silica, new precipitated silicas containing aluminum and their use for the reinforcement of elastomers

< Method for preventing photooxidation or air oxidation in food, pharmaceuticals and plastics

> Zirconium phosphate and method of making the same

> Epitaxial wafer

~ 00144