A method for annealing a structure formed by electrodeposition including
providing the electrodeposition structure, the electrodeposition structure
including an eletroformed mold, the electroformed mold having a nominal
thickness between and including 0.5 mm to 8.0 mm and having a melting
temperature; heating the electrodeposition structure to a temperature
between ambient temperature and the melting temperature of the
electrodeposition structure; isostatically pressurizing the
electrodeposition structure to a pressure above ambient pressure; cooling
the electrodeposition structure to ambient temperature; and depressurizing
the electrodeposition structure to ambient pressure.
Метод для обжигать структуру сформированную электросаждением включая обеспечивать структуру электросаждения, структура электросаждения включая eletroformed прессформа, electroformed прессформа имея штатную толщину между и вклюая 0.5 миллиметра к 8.0 миллиметра и имея плавя температуру; нагревать структуру электросаждения к температуре между окружающей температурой и плавя температурой структуры электросаждения; isostatically надувать структуру электросаждения к давлению над окружающим давлением; охлаждать структуру электросаждения к окружающей температуре; и сбрасывающ давление структура электросаждения к окружающему давлению.
