An exposure method for scanning a master plate having a pattern and a
photosensitive substrate relative to a projection optical system for
projecting the pattern onto the substrate. The method includes a first
step of accelerating a stage to a predetermined velocity, the stage
holding the master plate or the substrate, a second step of transporting
the stage at the predetermined velocity and exposing the substrate to the
pattern during travel of the stage in a scanning direction, a third step
of stopping the stage traveling at the predetermined velocity, and an
acceleration step of accelerating the stage between the second step and
the third step.
Eine Belichtung Methode für das Ablichten einer Vorlagenplatte, die ein Muster und ein lichtempfindliches Substrat im Verhältnis zu einem Projektion optischen System für das Projizieren des Musters auf das Substrat hat. Die Methode schließt einen ersten Schritt der Beschleunigung eines Stadiums zu einer vorbestimmten Geschwindigkeit, des Stadiums, welches die Vorlagenplatte oder das Substrat halten, des zweiten Schrittes des Transportierens des Stadiums an der vorbestimmten Geschwindigkeit und des Aussetzens des Substrates dem Muster während des Spielraums des Stadiums in einer Suchrichtung, des dritten Schrittes des Stoppens des Stadiums ein, das an der vorbestimmten Geschwindigkeit reist, und des Beschleunigung Schrittes der Beschleunigung des Stadiums zwischen den zweiten Schritt und den dritten Schritt.
