A projection exposure system is proposed which is positionable between a
first object and a second object for imaging the first object in a region
of the second object with light of a wavelength band having a width
.delta..lambda. about a central working wavelength .lambda., wherein a
relative width .delta..lambda./.lambda. of the wavelength band is larger
than 0.002, in particular, larger than 0.005, for example, of the
Hg-I-line. The projection exposure system is a so-called three-bulge
system comprising three bulges having, as a whole, a positive refractive
power and two waists having, as a whole, a negative refractive power. By
applying suitable measures, in particular, by suitably selecting the
material for the lenses forming the projection exposure system, the
long-term stability of the system is increased.
Een systeem van de projectieblootstelling wordt voorgesteld dat tussen een eerste voorwerp en een tweede voorwerp voor weergave het eerste voorwerp in een gebied van het tweede voorwerp met licht van een golflengteband die een breedte heeft positionable is delta..lambda. over een centrale het werk golflengte lambda., waarin relatieve breedte delta..lambda./lambda. van de golflengteband groter is dan 0,002, in het bijzonder, groter dan 0,005, bijvoorbeeld, van de Hg-I-Lijn. Het systeem van de projectieblootstelling is zogenaamd drie-zwelling een systeem dat uit drie zwellingen bestaat die hebben, als geheel, een positieve brekingsmacht en twee tailles die hebben, als geheel, een negatieve brekingsmacht. Door geschikte maatregelen, in het bijzonder, door het materiaal geschikt te selecteren voor de lenzen toe te passen die het systeem van de projectieblootstelling vormen, wordt de stabiliteit op lange termijn van het systeem verhoogd.
