Planer waveguide and method of formation

   
   

The present invention provides a method of forming a planar optical waveguide comprising the steps of forming a silica-based waveguide at a first temperature which is below a melting temperature of material from which the waveguide is formed; and annealing a region of the waveguide at a second temperature which is greater than the formation temperature and less than a melting temperature of material from which the waveguide is formed, so as to alter an effective refractive index of the region. In one embodiment the step of annealing is preceded by the step of forming a thin film heater over the region of the waveguide, the heater being capable of heating the region to the second temperature. The first temperature is preferably low (below 400.degree. C.) to maximize the range of annealing temperatures.

La presente invenzione fornisce un metodo di formare una guida di onde ottica planare che contiene i punti formare una guida di onde silicone-basata ad una prima temperatura che è sotto una temperatura di fusione di materiale da cui la guida di onde è formata; e ricottura una regione della guida di onde ad una seconda temperatura che è più grande della temperatura di formazione e di meno che una temperatura di fusione di materiale da cui la guida di onde è formata, in modo da alterare un indice di rifrazione efficace della regione. In un incorporamento il punto della ricottura è preceduto dal punto di formare un riscaldatore della pellicola sottile sopra la regione della guida di onde, il riscaldatore che è capace di riscaldamento della regione alla seconda temperatura. La prima temperatura è preferibilmente bassa (sotto 400.degree. C.) per elevare la gamma di temperature di ricottura.

 
Web www.patentalert.com

< High density fiber optic cable

< Waveguides having axially varying structure

> Index-guiding microstructured optical fibers

> Microstructured optical fiber

~ 00139