An interference filter (10) and a process (100) by which it may be
fabricated. A substrate (12, 52, 82) is provided and a working region (56,
84) is defined therein or thereupon. Relative to the horizontal substrate
(12, 52, 82), a plurality of vertical layers having differing refractive
index are then constructed by applying material into the working region
(56, 84) or altering material already in the working region (56, 84).
Photo masking and etching processes may be used to selectively remove
material in the working region (56, 84) for applying additional material
having a differing refractive index. Photo masking and impurity doping
processes may be used to selectively change material to have a differing
refractive index.
Un filtro de interferencia (10) y un proceso (100) por los cuales pueden ser fabricados. Se proporciona un substrato (12, 52, 82) y una región de trabajo (56, 84) se define en esto o con eso. Concerniente al substrato horizontal (12, 52, 82), una pluralidad de capas verticales que tienen índice de refracción que diferencia entonces es construida aplicando el material en la región de trabajo (56, 84) o alterando el material ya en la región de trabajo (56, 84). La foto que enmascara y que graba al agua fuerte procesos se puede utilizar para quitar selectivamente el material en la región de trabajo (56, 84) para aplicar el material adicional que tiene un índice de refracción que diferencia. El enmascarar de la foto y los procesos de doping de la impureza se pueden utilizar para cambiar selectivamente el material para tener un índice de refracción que diferencia.
