An exposure apparatus for projecting a pattern on a reticle onto a
substrate via projection optics to expose the substrate to the pattern.
The apparatus includes a focus detection system for detecting focus of the
projection optics, a barometer for measuring at least one of atmospheric
pressure and ambient air pressure within the apparatus, a calibration
device for calibrating the focus detection system, and a correction
device. The correction device acquires a correction quantity, for
correcting for a change in an image-formation characteristic ascribable to
a fluctuation in air pressure of the projection optics, based upon a
result of a measurement performed by the barometer during execution of the
calibration, and corrects operation of the calibration device using the
correction quantity.
Um instrumento de exposição para projetar um teste padrão em um reticle em uma carcaça através do sistema ótico da projeção expo a carcaça ao teste padrão. O instrumento inclui um sistema da deteção do foco para detectar o foco do sistema ótico da projeção, um barómetro para medir ao menos uma da pressão atmosférica e da pressão de ar ambiental dentro do instrumento, um dispositivo da calibração para calibrar o sistema da deteção do foco, e um dispositivo da correção. O dispositivo da correção adquire uma quantidade da correção, para corrigir para uma mudança em um ascribable característico da imagem-formação a uma flutuação na pressão de ar do sistema ótico da projeção, baseada em um resultado de uma medida executada pelo barómetro durante a execução da calibração, e corrige a operação do dispositivo da calibração usando a quantidade da correção.
