Compound having pyrrole ring and light-emitting device comprising same

   
   

A compound represented by the following general formula (1) and a light-emitting device comprising the compound. ##STR1## In the general formula (1), R.sub.1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R.sub.2 and R.sub.3 independently represent a hydrogen atom or a substituent and may bond together to form a ring; R.sub.4 represents a hydrogen atom or a substituent selected from the group consisting of alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, alkylcarbonyl groups, arylcarbonyl groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, carbamoyl groups and sulfamoyl groups; Z represents an atomic group forming an aromatic ring; A represents a comonomer unit; and k and n each represent a mole fraction, k being 1 to 100 (%), n being 0 to 99 (%), and the sum of k and n is 100 (%).

Un compuesto representado por el fórmula general siguiente (1) y un dispositivo luminescente que abarca el compuesto. ## del ## STR1 En el fórmula general (1), R.sub.1 representa a un átomo del hidrógeno o a grupo metílico; R.sub.2 y R.sub.3 representan independientemente un átomo del hidrógeno o un sustituto y pueden enlazar juntos para formar un anillo; R.sub.4 representa un átomo del hidrógeno o un sustituto seleccionado del grupo que consiste en grupos alkyl, grupos alkenyl, grupos del alkynyl, grupos aryl, grupos heterocíclicos, grupos del alkylcarbonyl, grupos del arylcarbonyl, grupos del alkylsulfonyl, grupos del arylsulfonyl, grupos del alkoxycarbonyl, grupos del aryloxycarbonyl, grupos del carbamoyl y grupos del sulfamoyl; Z representa a grupo atómico que forma un anillo aromático; A representa una unidad del comonomer; y k y n cada uno representan una fracción del topo, k que es 1 a 100 (%), n que es 0 a 99 (%), y la suma de k y n es 100 (%).

 
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< Method of making a composite substrate

< Method of depositing in situ a solid film on a substrate

> Method of producing pattern-formed structure and photomask used in the same

> Film forming method by radiating a plasma on a surface of a low dielectric constant film

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