An exposure apparatus having a plurality of projection optical systems
where each of the projection optical systems projects a predetermined
pattern onto a substrate and forms an exposure field on the substrate. The
exposure apparatus also includes a substrate stage which holds the
substrate and which moves in at least a scanning direction extending in a
straight line. The plurality of exposure fields are arranged along a
direction crossing the scanning direction, and the projection optical
systems and the substrate relatively move during a pattern projecting
operation along the scanning direction.
Un appareillage d'exposition ayant une pluralité de systèmes optiques de projection où chacun des systèmes optiques de projection projette un modèle prédéterminé sur un substrat et forme un champ d'exposition sur le substrat. L'appareillage d'exposition inclut également une étape de substrat qui tient le substrat et qui se déplace au moins une direction du balayage se prolongeant dans une ligne droite. La pluralité de champs d'exposition sont arrangées le long d'une direction croisant la direction du balayage, et les systèmes optiques de projection et le mouvement de substrat relativement pendant une opération de projection de modèle le long de la direction du balayage.
