The major object of the present invention is to provide a method for
producing a laminated film, wherein a titanium oxide film can be formed at
a temperature at which a polymeric film is not decomposed, elongated or
deformed, while the laminated film of a titanium oxide film or of a
titanium oxide film and a silica film, having optical performance usable
as an anti-reflective film can be formed at a high rate, as well as an
anti-reflective film produced by the method. To solve this major object, a
laminated film of a titanium oxide film or of a titanium oxide film and a
silica film is formed by plasma CVD method in the present invention.
El objeto principal de la actual invención es proporcionar un método para producir una película laminada, en donde una película del óxido titanium se puede formar en una temperatura en la cual una película polimérica no se descomponga, se alargue o no esté deformida, mientras que la película laminada de una película del óxido titanium o de una película del óxido titanium y de una película de la silicona, teniendo funcionamiento óptico usable como una película contra-reflexiva se puede formar en una alta tarifa, tan bien como una película contra-reflexiva producida por el método. Para solucionar este objeto importante, una película laminada de una película del óxido titanium o de una película del óxido titanium y de una película de la silicona es formada por el método de plasma CVD en la actual invención.
